Țintă de tantalu

Țintele de tantal au caracteristici precum puritate ridicată, structură densă și stabilitate bună la pulverizare, prezentând performanțe stabile în medii cu vid înalt și plasmă. Filmele subțiri formate din ținte de tantal prezintă aderență puternică, uniformitate bună și stabilitate chimică ridicată, făcându-le utilizate pe scară largă în câmpurile de depunere a filmului subțire, cum ar fi semiconductori, circuite integrate, panouri de afișare și acoperiri optice.

Introducerea Produsului

Ținta noastră de tantal

Dimensiune	Diametru 50-400mm X Grosime 3-28mm
Nota	R05200 R05400 R05252 (Ta-2.5W) R05255 (Ta-10W)
Puritate	Mai mare sau egal cu 99,95% (Maximum 99,99%)
Recristalizați	Minimum 95%
Dimensiunea boabelor	Minim 40um
Rugozitatea suprafeței	Maxim Ra0.4
Planeitatea	0,1 mm sau maxim 0,10%
Toleranţă	Diametru +/-0,254 mm

Proces de fabricație – Topire în vid cu fascicul de electroni

Adoptăm topirea în vid cu fascicul de electroni (EB) ca proces de topire a miezului pentru lingourile de tantal.

Avantajele procesului:

● Mediul cu vid ultra-minimizează contaminarea cu gaze

● Îndepărtarea superioară a oxigenului, azotului, hidrogenului și impurităților metalice

● Microstructură și compoziție chimică foarte uniforme

● Rezistență sporită la coroziune și durată de viață sporită

● Consistență excelentă între loturi

Acest proces este deosebit de critic pentru aplicațiile care necesită puritate ridicată, stabilitate pe termen lung-și rezistență extremă la coroziune.