Grade de puritate țintă de niobiu MH disponibile

99,95% (4N) țintă de niobiu

● Puritate ultra-înaltă, cu impurități metalice și gazoase extrem de scăzute

● Plasmă stabilă, generare scăzută de particule

● Potrivit pentru semiconductoare, supraconductoare și filme electronice de ultimă generație-

99,9% (3N) țintă de niobiu

● Puritate ridicată cu un raport cost-performanță excelent

● Stabilitate fiabilă la pulverizare pentru aplicații industriale de acoperire

● Potrivit pentru acoperiri generale electronice, optice și funcționale

Forme țintă de niobiu MH

Furnizăm ținte de niobiu în geometrii multiple pentru a se potrivi cu diferite sisteme de pulverizare:

Țintă dreptunghiulară / pătrată

● Sisteme planare de pulverizare

● Catozi de pulverizare cu magnetron

● Depunere uniformă de peliculă{0}}largă

Țintă tubulară

● Sisteme rotative de pulverizare

● Rată de utilizare țintă mai mare

● O mai bună uniformitate a acoperirii și eficiență a producției

(Dimensiuni personalizate și opțiuni de lipire disponibile la cerere.)

Gama de specificații țintă MH Niobium

Puritate	99.9%, 99.95%
Densitate	Mai mare sau egală cu 99,9% din densitatea teoretică
Structura cerealelor	Fină și uniformă
Finisaj de suprafață	Ra0.4
Țintă dreptunghiulară / pătrată	Lungime mai mică sau egală cu 3000 mm, lățime mai mică sau egală cu 800 mm, grosime (mm) 1~20 mm
Țintă tubulară	Diametru exterior 10-400mm, perete 2-28mm

99,95% vs 99,9% – Ghid de selecție

Articol	99,95% Nb țintă	99,9% Nb țintă
Nivelul de puritate	Puritate ultra-(4N)	Puritate ridicată (3N)
Conținut de impurități	Extrem de scăzut	Scăzut
Calitatea filmului	Cea mai mare uniformitate și stabilitate	Stabil, industrial{0}
Generarea particulelor	Minim	Scăzut
Aplicații tipice	Semiconductor, filme supraconductoare, cercetare și dezvoltare	Acoperiri optice, filme funcționale, producție de masă
Nivelul costurilor	Superior	Mai economic

Țintă dreptunghiulară vs țintă tubulară – Ghid de selecție

Comparaţie	Țintă dreptunghiulară / pătrată	Țintă tubulară
Compatibilitatea proceselor	Pulverizare planară, pulverizare cu magnetron	Pulverizare cilindrică
Utilizarea materialului	20%~30%	70%~85%
Costul de achiziție	Moderat	Mult mai sus decât țintele plăcilor
Eficiența producției	Loturi mici, acoperiri cu mai multe-soiuri	Loturi mari și acoperiri continue
Tratament de suprafață	Slefuire fină și lustruire	Măcinare fină, mai dificilă
Materiale propuse	Niobiu pur (99,95%), Nb-1Zr	Niobiu pur (99,95%), Nb-1Zr (Uz special pentru temperaturi înalte)

MH Niobium Target Aplicații tipice

Filme subțiri semiconductoare

Acoperiri supraconductoare de niobiu

Acoperiri optice și decorative

Display și dispozitive electronice

Cercetare și filme funcționale avansate

De ce să alegeți ținte de niobiu MH

● Puritate ridicată și performanță de pulverizare stabilă

● Microstructură uniformă și densitate ridicată

● Geometrii multiple disponibile: dreptunghiulară și tubulară

● Dimensiuni personalizate și soluții de lipire

● Utilizare dovedită în aplicații avansate de acoperire

Țintele noastre de pulverizare cu niobiu oferă puritate fiabilă, comportament de pulverizare consecvent și performanță de înaltă{0}}calitate a filmului pentru aplicații solicitante de peliculă subțire.